Публікація: Вплив хімічної обробки на шорсткість поверхні кремнієвих пластин
Завантаження...
Файли
Дата
Автори
Назва журналу
ISSN журналу
Назва тому
Видавець
ХНУРЕ
Анотація
This article discusses the effect of chemical treatment on the roughness of a silicon wafer surface.
Опис
Ключові слова
кремнієва пластина, хімічна обробка, шорсткість
Цитування
Теслюк С. І. Вплив хімічної обробки на шорсткість поверхні кремнієвих пластин / Теслюк С.І. // Радіоелектроніка та молодь у ХХІ столітті : матеріали 24 Міжнар. молодіж. форуму, 7-9 квіт. 2020р. – Харків : ХНУРЕ, 2020. – Т. 2. – С. 39-40.