Публікація: Вплив хімічної обробки на шорсткість поверхні кремнієвих пластин
Завантаження...
Дата
2020
Автори
Назва журналу
ISSN журналу
Назва тома
Видавництво
ХНУРЕ
Анотація
This article discusses the effect of chemical treatment on the roughness of a silicon wafer surface.
Опис
Ключові слова
кремнієва пластина, хімічна обробка, шорсткість
Бібліографічний опис
Теслюк С. І. Вплив хімічної обробки на шорсткість поверхні кремнієвих пластин / Теслюк С.І. // Радіоелектроніка та молодь у ХХІ столітті : матеріали 24 Міжнар. молодіж. форуму, 7-9 квіт. 2020р. – Харків : ХНУРЕ, 2020. – Т. 2. – С. 39-40.