Публікація: Неразрушающий технологический СВЧ контроль параметров полупроводниковых структур на основе арсенида галлия
Завантаження...
Дата
Назва журналу
ISSN журналу
Назва тому
Видавець
ХНУРЭ
Анотація
Предлагается метод измерения электропроводности и толщины высокоомных арсенидгаллиевых пластин. Приводится схема измерительной установки и результаты экспериментальных измерений.
Опис
Ключові слова
измерение электропроводности, арсенидгаллиевая пластина
Цитування
Бабыченко С. В. Неразрушающий технологический СВЧ контроль параметров полупроводниковых структур на основе арсенида галлия / С. В. Бабыченко, Б. Г. Бородин, Ю. Е. Гордиенко // Радиоэлектроника и информатика : науч.-техн. журн. – 2004. – Вып. 2. – С. 43–47.