Розробка структурної схеми установки для нанесення шару фоторезисту

Публікація:
Розробка структурної схеми установки для нанесення шару фоторезисту

dc.contributor.author	Кадубовський, Д. С.
dc.date.accessioned	2022-01-26T14:47:23Z
dc.date.available	2022-01-26T14:47:23Z
dc.date.issued	2020
dc.description.abstract	The development scheme of the installation for applying a layer of photoresist is presented.	uk_UA
dc.identifier.citation	Кадубовський Д. С. Розробка структурної схеми установки для нанесення шару фоторезисту / Д. С. Кадубовський // Радіоелектроніка та молодь у ХХІ столітті : матеріали 24 Міжнар. молодіж. форуму, 7-9 квіт. 2020р. – Харків : ХНУРЕ, 2020. – Т. 2. – С. 21-22.	uk_UA
dc.identifier.uri	https://openarchive.nure.ua/handle/document/19280
dc.language.iso	uk	uk_UA
dc.subject	фотолітографія	uk_UA
dc.subject	центрифугування	uk_UA
dc.subject	фоторезист	uk_UA
dc.title	Розробка структурної схеми установки для нанесення шару фоторезисту	uk_UA
dc.type	Other	uk_UA
dspace.entity.type	Publication