Публікація:
Розробка структурної схеми установки для нанесення шару фоторезисту

Проста сторінка документа
dc.contributor.authorКадубовський, Д. С.
dc.date.accessioned2022-01-26T14:47:23Z
dc.date.available2022-01-26T14:47:23Z
dc.date.issued2020
dc.description.abstractThe development scheme of the installation for applying a layer of photoresist is presented.uk_UA
dc.identifier.citationКадубовський Д. С. Розробка структурної схеми установки для нанесення шару фоторезисту / Д. С. Кадубовський // Радіоелектроніка та молодь у ХХІ столітті : матеріали 24 Міжнар. молодіж. форуму, 7-9 квіт. 2020р. – Харків : ХНУРЕ, 2020. – Т. 2. – С. 21-22.uk_UA
dc.identifier.urihttps://openarchive.nure.ua/handle/document/19280
dc.language.isoukuk_UA
dc.subjectфотолітографіяuk_UA
dc.subjectцентрифугуванняuk_UA
dc.subjectфоторезистuk_UA
dc.titleРозробка структурної схеми установки для нанесення шару фоторезистуuk_UA
dc.typeOtheruk_UA
dspace.entity.typePublication

Файли

Оригінальний пакунок

Зараз показано 1 - 1 з 1
Зображення мініатюри
Назва:
Kadubovskyi.pdf
Розмір:
276.43 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Завантажити

Пакунок ліцензії

Зараз показано 1 - 1 з 1
Зображення мініатюри
Назва:
license.txt
Розмір:
9.42 KB
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис:
Завантажити

Колекції

Кафедра комп’ютерно-інтегрованих технологій, автоматизації та робототехніки (КІТАР)