Публікація: Розробка структурної схеми установки для нанесення шару фоторезисту
Завантаження...
Дата
Автори
Назва журналу
ISSN журналу
Назва тому
Видавець
Анотація
The development scheme of the installation for applying a layer of photoresist is presented.
Опис
Ключові слова
фотолітографія, центрифугування, фоторезист
Цитування
Кадубовський Д. С. Розробка структурної схеми установки для нанесення шару фоторезисту / Д. С. Кадубовський // Радіоелектроніка та молодь у ХХІ столітті : матеріали 24 Міжнар. молодіж. форуму, 7-9 квіт. 2020р. – Харків : ХНУРЕ, 2020. – Т. 2. – С. 21-22.