Оптимізація режимів нанесення фоторезисту

Спрощена сторінка документа
dc.contributor.authorПисьменецький, В. О.
dc.contributor.authorПрофатіло, О. С.
dc.contributor.authorРайков, О.
dc.date.accessioned2018-10-30T12:20:05Z
dc.date.available2018-10-30T12:20:05Z
dc.date.issued2018
dc.description.abstractВ даному матеріалі було проведено двофакторний дисперсійний аналіз нанесення фоторезисту та дослідження його властивостейuk_UA
dc.identifier.citationПисьменецький В.О. Оптимізація режимів нанесення фоторезисту / В.О. Письменецький, О. Профатіло, В. Райков // II Міжн. нук.-техн. конф. «Виробництво & Мехатронні системи» (M&MS-2018). – Харків, 2018. – С. 115–118.uk_UA
dc.identifier.urihttp://openarchive.nure.ua/handle/document/7115
dc.language.isoukuk_UA
dc.publisherХНУРЕuk_UA
dc.subjectфоторезистuk_UA
dc.subjectоптимізаціяuk_UA
dc.subjectдисперсійний аналізuk_UA
dc.titleОптимізація режимів нанесення фоторезистуuk_UA
dc.typeAbstract of Thesisuk_UA
Файли
Оригінальний пакет
Зараз показано 1 - 1 з 1
Зображення мініатюри
Назва:
Сборник_m_ms2018_115-118.pdf
Розмір:
701.04 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Опис:
Завантажити
Ліцензійний пакет
Зараз показано 1 - 1 з 1
Зображення мініатюри
Назва:
license.txt
Розмір:
9.42 KB
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис:
Завантажити
Колекції
Кафедра комп'ютерно-інтегрованих технологій, автоматизації та мехатроніки (КІТАМ)