Оптимізація режимів нанесення фоторезисту
dc.contributor.author | Письменецький, В. О. | |
dc.contributor.author | Профатіло, О. С. | |
dc.contributor.author | Райков, О. | |
dc.date.accessioned | 2018-10-30T12:20:05Z | |
dc.date.available | 2018-10-30T12:20:05Z | |
dc.date.issued | 2018 | |
dc.description.abstract | В даному матеріалі було проведено двофакторний дисперсійний аналіз нанесення фоторезисту та дослідження його властивостей | uk_UA |
dc.identifier.citation | Письменецький В.О. Оптимізація режимів нанесення фоторезисту / В.О. Письменецький, О. Профатіло, В. Райков // II Міжн. нук.-техн. конф. «Виробництво & Мехатронні системи» (M&MS-2018). – Харків, 2018. – С. 115–118. | uk_UA |
dc.identifier.uri | http://openarchive.nure.ua/handle/document/7115 | |
dc.language.iso | uk | uk_UA |
dc.publisher | ХНУРЕ | uk_UA |
dc.subject | фоторезист | uk_UA |
dc.subject | оптимізація | uk_UA |
dc.subject | дисперсійний аналіз | uk_UA |
dc.title | Оптимізація режимів нанесення фоторезисту | uk_UA |
dc.type | Abstract of Thesis | uk_UA |
Файли
Оригінальний пакет
1 - 1 з 1
Завантаження...
- Назва:
- Сборник_m_ms2018_115-118.pdf
- Розмір:
- 701.04 KB
- Формат:
- Adobe Portable Document Format
- Опис:
Ліцензійний пакет
1 - 1 з 1
Завантаження...
- Назва:
- license.txt
- Розмір:
- 9.42 KB
- Формат:
- Item-specific license agreed upon to submission
- Опис: