Оптимізація режимів нанесення фоторезисту

Публікація:
Оптимізація режимів нанесення фоторезисту

dc.contributor.author	Письменецький, В. О.
dc.contributor.author	Профатіло, О. С.
dc.contributor.author	Райков, О.
dc.date.accessioned	2018-10-30T12:20:05Z
dc.date.available	2018-10-30T12:20:05Z
dc.date.issued	2018
dc.description.abstract	В даному матеріалі було проведено двофакторний дисперсійний аналіз нанесення фоторезисту та дослідження його властивостей.	uk_UA
dc.identifier.citation	Письменецький В. О. Оптимізація режимів нанесення фоторезисту / В. О. Письменецький, О. С. Профатіло, В. Райков // Виробництво & Мехатронні системи (M&MS'2018) : матеріали II Міжнар. наук.- техн. конф., 25-26 жовтня 2018 р. – Харків: [ Електронне видання], 2018. – С. 115–118.	uk_UA
dc.identifier.uri	http://openarchive.nure.ua/handle/document/7115
dc.language.iso	uk	uk_UA
dc.publisher	ХНУРЕ	uk_UA
dc.subject	фоторезист	uk_UA
dc.subject	оптимізація	uk_UA
dc.subject	дисперсійний аналіз	uk_UA
dc.title	Оптимізація режимів нанесення фоторезисту	uk_UA
dc.type	Abstract of Thesis	uk_UA
dspace.entity.type	Publication