Publication: Дослідження перспективних топологій побудови наноелектронних пристроїв, заснованих на фрактальних структурах
| dc.contributor.author | Котляр, Л. В. | |
| dc.date.accessioned | 2023-08-20T12:06:49Z | |
| dc.date.available | 2023-08-20T12:06:49Z | |
| dc.date.issued | 2020 | |
| dc.description.abstract | Об’єкт дослідження — фрактальні структури. Мета роботи — проведення аналізу напрямів застосування фрактальних структур в мікро- та нанотехнологіях та дослідження можливостей їхнього використання для створення еластичних електронних компонентів. Методи дослідження — аналіз літератури, комп’ютерне моделювання, комп’ютерний сннтез структур. В атестаційній роботі проведено огляд методів та способів реалізації фрактальних структур. Наведено приклади використання їх у мікроелектроніці. Одним з найбільш перспективних напрямів визнано створення на їх основі еластичних електронних пристроїв. Внаслідок виконання роботи оглянуто декілька методів визначення і застосування фрактальних структур | |
| dc.identifier.citation | Котляр Л. В. Дослідження перспективних топологій побудови наноелектронних пристроїв, заснованих на фрактальних структурах : пояснювальна записка до атестаційної роботи здобувача вищої освіти на другому (магістерському) рівні, спеціальність 153 Мікро- та наносистемна техніка / Л. В. Котляр ; М-во освіти і науки України, Харків. нац. ун-т радіоелектроніки. – Харків, 2020. – 60 с. | |
| dc.identifier.uri | https://openarchive.nure.ua/handle/document/23950 | |
| dc.language.iso | uk | |
| dc.subject | фрактал | |
| dc.subject | кластер | |
| dc.subject | нанотехнології | |
| dc.subject | кристалографія | |
| dc.subject | кристалографія | |
| dc.subject | піксел | |
| dc.subject | напівпровідник | |
| dc.title | Дослідження перспективних топологій побудови наноелектронних пристроїв, заснованих на фрактальних структурах | |
| dc.type | Other | |
| dspace.entity.type | Publication |
Files
License bundle
1 - 1 of 1
No Thumbnail Available
- Name:
- license.txt
- Size:
- 9.64 KB
- Format:
- Item-specific license agreed upon to submission
- Description: