Публікація: Розроблення макету для прямого експонування топології друкованих плат
Завантаження...
Дата
Автори
Назва журналу
ISSN журналу
Назва тому
Видавець
Анотація
Об’єкт дослідження – процеси експонування топології друкованих плат. Предмет дослідження – технологія фотолітографії для друкованих плат.
Мета роботи – розробка малогабаритного верстату для прямого експонування одношарових (ОДП) та двошарових друкованих плат (ДДП). Проведено аналіз існуючих процесів фотополімерного друку, розглянуті види технологій 3D-друку, а саме SLA, DLP та LCD. Для проведення осліджень розглянуто макет для експонування топології друкованих плат за технологією LCD. В результаті дослідження таких чинників, як температура, час експонування та інтенсивність випромінювання, побудована регресійно-кореляційна модель, яка показує вплив параметрів друку на збереження геометричних розмірів моделі. Отримані результати можуть бути використані при організації та налаштуванні автоматизованого виробництва друкованих плат.
Опис
Ключові слова
фотолітографія, друкована плата, фотополімерний друк
Цитування
Манченко А. В. Розроблення макету для прямого експонування топології друкованих плат : пояснювальна записка до кваліфікаційної роботи здобувача вищої освіти на першому (бакалаврському) рівні, спеціальність 151 – Автоматизація та комп`ютерно-інтегровані технології / А. В. Манченко ; М-во освіти і науки України, Харків. нац. ун-т радіоелектроніки. – Харків, 2025. – 62 с.