Публікація:
Автоматизація процесу формування плівок та оптимізації режимів нанесення захисного покриття

dc.contributor.authorПрофатіло, О. С.
dc.date.accessioned2020-02-17T08:58:45Z
dc.date.available2020-02-17T08:58:45Z
dc.date.issued2019
dc.description.abstractОб’єкт дослідження – технологічний процес нанесення фоторезисту та експонування. Предмет дослідження – система нанесення та експонування фоторезиста. Методи дослідження – аналіз, дисперсійний метод, математична модель. Мета роботи – автоматизувати процес формування плівок фоторезистів з метою створення захисних покрить та оптимізувати режими їх нанесення. При виконанні магістерської атестаційної роботи було проведено аналіз різновидів ліній фотолітографії різного рівня автоматизації, проаналізовано функціонування технологічної лінії «Лада 125», на основі якої було розроблено технологічний маршрут процесу фотолітографії. а також ознайомлення з алгоритмом його функціювання. Також було змодельована процес формування зображення в фотолітографії. З урахуванням зазначеного було розроблений алгоритм моделювання технологічного процесу фотолітографії та алгоритм автоматизованого нанесення фоторезиста центрифугуванням та захисних покрить. Оптимізовано режими нанесення фоторезиста та захисних покрить с використанням дисперсійного аналізу. Також було розроблено математичну модель процесу формування захисного покриття методом центрифугування та експозиції фоторезиста. Результати магістерської атестаційної роботи апробовані у фаховій статті «II Міжнародна Конференція Виробництво & Мехатронні системи 2018»uk_UA
dc.identifier.citationПрофатіло О. С. Автоматизація процесу формування плівок та оптимізації режимів нанесення захисного покриття : пояснювальна записка до атестаційної роботи здобувача вищої освіти на другому (магістерському) рівні, спеціальність 151 – Автоматизація та комп'ютерно-інтегровані технології / О.С. Профатіло ; М-во освіти і науки України, Харків. нац. ун-т радіоелектроніки, кафедра комп’ютерно-інтегрованих технологій, автоматизації та мехатроніки. – Харків, 2019. – 95 с.uk_UA
dc.identifier.urihttp://openarchive.nure.ua/handle/document/10767
dc.language.isoukuk_UA
dc.subjectекспонуванняuk_UA
dc.subjectконтактна фотолітографіяuk_UA
dc.subjectкремнієва підкладкаuk_UA
dc.subjectфоторезистuk_UA
dc.subjectфотошаблонuk_UA
dc.subjectультафіолетове випромінюванняuk_UA
dc.subjectцентрифугаuk_UA
dc.subjectpid регуляторuk_UA
dc.titleАвтоматизація процесу формування плівок та оптимізації режимів нанесення захисного покриттяuk_UA
dc.typeOtheruk_UA
dspace.entity.typePublication

Файли

Оригінальний пакет
Зараз показано 1 - 1 з 1
Немає доступних мініатюр
Назва:
2019_M_CITAM_Profatilo_O_S.doc
Розмір:
17.69 MB
Формат:
Microsoft Word
Ліцензійний пакет
Зараз показано 1 - 1 з 1
Немає доступних мініатюр
Назва:
license.txt
Розмір:
9.42 KB
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис: