Публікація: Оптимізація режимів нанесення фоторезисту
Завантаження...
Дата
2018
Назва журналу
ISSN журналу
Назва тома
Видавництво
ХНУРЕ
Анотація
В даному матеріалі було проведено двофакторний дисперсійний аналіз нанесення фоторезисту та дослідження його властивостей.
Опис
Ключові слова
фоторезист, оптимізація, дисперсійний аналіз
Бібліографічний опис
Письменецький В. О. Оптимізація режимів нанесення фоторезисту / В. О. Письменецький, О. С. Профатіло, В. Райков // Виробництво & Мехатронні системи (M&MS'2018) : матеріали II Міжнар. наук.- техн. конф., 25-26 жовтня 2018 р. – Харків: [ Електронне видання], 2018. – С. 115–118.