За технічних причин Електронний архів Харківського національного університету радіоелектроніки «ElAr КhNURE» працює тільки на перегляд. Про відновлення роботи у повному обсязі буде своєчасно повідомлено.
 

Публікація:
Математические модели технологического процесса напыления наноструктурированных диэлектрических пленок, полученных методом ионно-плазменного распыления

Немає доступних мініатюр

Дата

2012

Назва журналу

ISSN журналу

Назва тома

Видавництво

Харьковский Национальный Университет Радиоэлектроники

Дослідницькі проекти

Організаційні підрозділи

Видання журналу

Анотація

В статье приведены математические модели процесса напыления наноструктурированных диэлектрических пленок, полученных ионно-плазменным методом распыления кремния в атмосфере кислорода, азота и их смесей. Определены оптимальные управляющие воздействия параметров напыления, применение которых дает возможность получать качественные диэлектрические пленки с заданными параметрами. Приведеныe оптимальные управляющие воздействия могут быть использованы для АСУТП получения пленок.

Опис

Статья состоит из двух разделов:Анализи методы получения наноструктурированных диэлектрических пленок, математическое моделирование процесса напыления диэлектрических пленок и определение оптимальных управляющих воздействий;выводов и рекомендаций по дальнейшему направлению исследований

Ключові слова

модели, диэлектрические пленки, ионнно-плазменное траспыление

Бібліографічний опис

Гурин В. Н. Математические модели технологического процесса напыления наноструктурированных диэлектрических пленок, полученных методом ионно-плазменного распыления /В. Н. Гурин, А. Г. Фирсов, Д. В. Гурин // Автоматизированные системы управления и приборы автоматики.Всеукраинский межведомственный научно-технический сборник.-2012-Выпуск 161-С.74-77

DOI