Публікація: Кинетика фотопроводимости c-Si с аморфными неоднородностями
Завантаження...
Дата
2017
Автори
Назва журналу
ISSN журналу
Назва тома
Видавництво
ХНУРЭ
Анотація
Теоретически исследовано влияние на фотопроводимость кристаллического кремния аморфных вкраплений цилиндрической формы при воздействии излучения из области фоточувствительности исследуемой структуры. Проанализирована фотопроводимость структуры в зависимости от геометрических размеров вкраплений, их расположения в структуре и скоростью поверхностной рекомбинации неравновесных носителей заряда. Установлено, что при увеличении доли вкраплений в структуре процессы генерации неравновесных носителей заряда определяются, главным образом, аморфной матрицей. Выявлено возникновения при определенных условиях эффекта отрицательной фотопроводимости.
Опис
Ключові слова
фотопроводимость структуры, фотопроводимость кристаллического кремния, аморфная матрица
Бібліографічний опис
Бабыченко О. Ю. Кинетика фотопроводимости c-Si с аморфными неоднородностями / О. Ю. Бабыченко, А. Г. Пащенко // Радиотехника : Всеукр. межвед. науч.-техн. сб. – 2017. – Вып. 190. – С. 36 – 43