Кадубовський, Д. С.2022-01-262022-01-262020Кадубовський Д. С. Розробка структурної схеми установки для нанесення шару фоторезисту / Д. С. Кадубовський // Радіоелектроніка та молодь у ХХІ столітті : матеріали 24 Міжнар. молодіж. форуму, 7-9 квіт. 2020р. – Харків : ХНУРЕ, 2020. – Т. 2. – С. 21-22.https://openarchive.nure.ua/handle/document/19280The development scheme of the installation for applying a layer of photoresist is presented.ukфотолітографіяцентрифугуванняфоторезистOther