Теслюк, С. І.2022-01-262022-01-262020Теслюк С. І. Вплив хімічної обробки на шорсткість поверхні кремнієвих пластин / Теслюк С.І. // Радіоелектроніка та молодь у ХХІ столітті : матеріали 24 Міжнар. молодіж. форуму, 7-9 квіт. 2020р. – Харків : ХНУРЕ, 2020. – Т. 2. – С. 39-40.https://openarchive.nure.ua/handle/document/19305This article discusses the effect of chemical treatment on the roughness of a silicon wafer surface.ukкремнієва пластинахімічна обробкашорсткістьConference proceedings