Розроблення макету для прямого експонування топології друкованих плат - Манченко, А. В. (My University, 2025)
Об’єкт дослідження – процеси експонування топології друкованих плат. Предмет дослідження – технологія фотолітографії для друкованих плат. Мета роботи – розробка малогабаритного верстату для прямого експонування одношарових (ОДП) та двошарових друкованих плат (ДДП). Проведено аналіз існуючих процесів фотополімерного друку, розглянуті види технологій 3D-друку, а саме SLA, DLP та LCD. Для проведення осліджень розглянуто макет для експонування топології друкованих плат за технологією LCD. В результаті дослідження таких чинників, як температура, час експонування та інтенсивність випромінювання, побудована регресійно-кореляційна модель, яка показує вплив параметрів друку на збереження геометричних розмірів моделі. Отримані результати можуть бути використані при організації та налаштуванні автоматизованого виробництва друкованих плат.
Keywords: фотолітографія; друкована плата; фотополімерний друк