Профатіло, О. С.2020-02-172020-02-172019Профатіло О. С. Автоматизація процесу формування плівок та оптимізації режимів нанесення захисного покриття : пояснювальна записка до атестаційної роботи здобувача вищої освіти на другому (магістерському) рівні, спеціальність 151 – Автоматизація та комп'ютерно-інтегровані технології / О.С. Профатіло ; М-во освіти і науки України, Харків. нац. ун-т радіоелектроніки, кафедра комп’ютерно-інтегрованих технологій, автоматизації та мехатроніки. – Харків, 2019. – 95 с.http://openarchive.nure.ua/handle/document/10767Об’єкт дослідження – технологічний процес нанесення фоторезисту та експонування. Предмет дослідження – система нанесення та експонування фоторезиста. Методи дослідження – аналіз, дисперсійний метод, математична модель. Мета роботи – автоматизувати процес формування плівок фоторезистів з метою створення захисних покрить та оптимізувати режими їх нанесення. При виконанні магістерської атестаційної роботи було проведено аналіз різновидів ліній фотолітографії різного рівня автоматизації, проаналізовано функціонування технологічної лінії «Лада 125», на основі якої було розроблено технологічний маршрут процесу фотолітографії. а також ознайомлення з алгоритмом його функціювання. Також було змодельована процес формування зображення в фотолітографії. З урахуванням зазначеного було розроблений алгоритм моделювання технологічного процесу фотолітографії та алгоритм автоматизованого нанесення фоторезиста центрифугуванням та захисних покрить. Оптимізовано режими нанесення фоторезиста та захисних покрить с використанням дисперсійного аналізу. Також було розроблено математичну модель процесу формування захисного покриття методом центрифугування та експозиції фоторезиста. Результати магістерської атестаційної роботи апробовані у фаховій статті «II Міжнародна Конференція Виробництво & Мехатронні системи 2018»ukекспонуванняконтактна фотолітографіякремнієва підкладкафоторезистфотошаблонультафіолетове випромінюванняцентрифугаpid регуляторOther