Письменецький, В. О.Профатіло, О. С.Райков, О.2018-10-302018-10-302018Письменецький В. О. Оптимізація режимів нанесення фоторезисту / В. О. Письменецький, О. С. Профатіло, В. Райков // Виробництво & Мехатронні системи (M&MS'2018) : матеріали II Міжнар. наук.- техн. конф., 25-26 жовтня 2018 р. – Харків: [ Електронне видання], 2018. – С. 115–118.http://openarchive.nure.ua/handle/document/7115В даному матеріалі було проведено двофакторний дисперсійний аналіз нанесення фоторезисту та дослідження його властивостей.ukфоторезистоптимізаціядисперсійний аналізAbstract of Thesis