Оптимізація режимів нанесення фоторезисту
Дата
2018
Автори
Письменецький, В. О.
Профатіло, О. С.
Райков, О.
Назва журналу
ISSN журналу
Назва тому
Видавець
ХНУРЕ
Анотація
В даному матеріалі було проведено двофакторний дисперсійний аналіз нанесення фоторезисту та
дослідження його властивостей
Опис
Ключові слова
фоторезист, оптимізація, дисперсійний аналіз
Цитування
Письменецький В.О. Оптимізація режимів нанесення фоторезисту / В.О. Письменецький, О. Профатіло, В. Райков // II Міжн. нук.-техн. конф. «Виробництво & Мехатронні системи» (M&MS-2018). – Харків, 2018. – С. 115–118.